FR-pRo：Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)x
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1. 產(chǎn)品概述
FR-pRo膜厚儀: 按客戶的需求量身定制的薄膜特性測(cè)量工具。
FR-pRo膜厚儀是一個(gè)模塊化和可擴(kuò)展平臺(tái)的光學(xué)測(cè)量設(shè)備，用于測(cè)量厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。
FR-pRo膜厚儀廣泛應(yīng)用于各種不同的應(yīng)用。 包括：吸收率/透射率/反射率測(cè)量，薄膜特性在溫度和環(huán)境控制下甚至在液體環(huán)境下的表征等等…
2. 膜厚儀應(yīng)用
大學(xué)&研究實(shí)驗(yàn)室
半導(dǎo)體行業(yè)
高分子聚合物&阻抗表征
電介質(zhì)特性表征
生物醫(yī)學(xué)
硬涂層，陽(yáng)極氧化，金屬零件加工
光學(xué)鍍膜
非金屬薄膜等等…
FR-pRo膜厚儀可由用戶按需選擇裝配模塊，和心部件包括光源，光譜儀（適用于 200nm-2500nm 內(nèi)的任何光譜系統(tǒng)）和控制單元，電子通訊模塊。
此外，還有各種各種配件，比如:
用于測(cè)量吸收率/透射率和化學(xué)濃度的薄膜/試管架；
用于表征涂層特性的薄膜厚度工具；
用于控制溫度或液體環(huán)境下測(cè)量的加熱裝置或液體試劑盒；
漫反射和全反射積分球。
通過不同模塊組合，蕞終的配置可以滿足任何終端用戶的需求。
3. 膜厚儀規(guī)格（Specificatins ）
model | UV/VIS | UV/NIR-EXT | UV/NIR-HR | D UV/NIR | VIS/NIR | D VIS/NIR | NIR | NIR-N1 | NIR-N2 | NIR-N3 | NIR-N4 |
波長(zhǎng)范圍 —nm | 200-850 | 200-1020 | 200-1100 | 200-1700 | 370 -1020 | 370-1700 | 900-1700 | 850-1050 | 900-1050 | 1280-1350 | 1520-1580 |
| 像素 | 3648 | 3648 | 3648 | 3648 & 512 | 3648 | 3648 & 512 | 512 | 3648 | 3648 | 512 | 512 |
| 最小厚度-SiO2 | 1nm | 1nm | 1nm | 1nm | 12nm | 12nm | 50nm | 1um | 4um | 12um | 20um |
| 最大厚度-SiO2 | 80um | 90um | 120um | 250um | 100um | 250um | 250um | 500um | 1.2mm | 2mm | 3mm |
| 最大厚度-Si | 300um | 500um | 1mm | 1.3mm | |||||||
| n&k-最小厚度 | 50nm | 50nm | 50nm | 50nm | 100nm | 100nm | 500nm | ||||
| 厚度精度 | 1nm/0.2% | 1nm/0.2% | 1nm/0.2% | 1nm/0.2% | 1nm/0.2% | 2nm/0.2% | 3nm/0.4% | 50nm/0.2% | 50nm/0.2% | 50nm/0.2% | 50nm/0.2% |
| 厚度穩(wěn)定性 | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.05nm | 0.15nm | 5nm | 5nm | 5nm | |
| 光斑尺寸 | 350微米（可根據(jù)要求提供更小的光斑尺寸選項(xiàng)） | ||||||||||
| 材料數(shù)據(jù)庫(kù) | 超過700種不同材料 | ||||||||||
4. 膜厚儀配件（Accessries）
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電腦 |
19 英寸屏幕的筆記本電腦/觸摸屏電腦 |
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聚焦模塊 |
光學(xué)聚焦模塊安裝在反射探頭上，光斑尺寸＜100um |
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薄膜/比色皿容器 |
在標(biāo)準(zhǔn)器皿中對(duì)薄膜或液體的透射率測(cè)量 |
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接觸式探頭 |
用于涂層厚度測(cè)量和光學(xué)測(cè)量的配件，適用于彎曲表面和曲面樣品 |
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顯微鏡 |
用于高橫向分辨率的反射率及厚度顯微測(cè)量 |
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自動(dòng)化平臺(tái)薄膜測(cè)繪 |
帶有圓晶卡盤的Polar（R-Θ）或 Cartesian（X-Y）自動(dòng)化樣品臺(tái)可選，Polar（R-Θ）樣品臺(tái)支持反射率測(cè)量，Cartesian（X-Y）樣品臺(tái)支持反射率和透射率測(cè)量 |
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積分球組件 |
用于測(cè)量涂層和表面的鏡面反射和漫反射 |
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手動(dòng) X-Y 樣品臺(tái) |
測(cè)量面積為 100mmx100mm 或 200mmx200mm 的X-Y 手動(dòng)平臺(tái) |
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加熱模塊 |
嵌入FR-tool 中，范圍由室溫~200oC，通過FR-Monitor 運(yùn)行可編程溫控器(0.1 oC 精度). |
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液體模塊 |
聚四氟乙烯容器，用于通過石英光學(xué)窗口測(cè)量在液體中的樣品。樣品夾具，
用于將樣品插入可處理 30mmx30mm 樣品的液體中 |
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流通池 |
液體中吸光率、微量熒光測(cè)量 |
5. 膜厚儀工作原理
白光反射光譜(WLRS)是測(cè)量垂直于樣品表面的某一波段的入射光，在經(jīng)多層或單層薄膜反射后，經(jīng)界面干涉產(chǎn)生的反射光譜可確定單層或多層薄膜（透明，半透明或全反射襯底）的厚度及 N*K 光學(xué)常數(shù)。
* 規(guī)格如有更改，恕不另行通知;
* 厚度測(cè)量范圍即代裱光譜范圍，是基于在高反射襯底折射率為 1.5 的單層膜測(cè)量厚度。
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唐女士-華南、西南