FR-Scanner-AIO-Mic-XY300

產品簡介：

FR-Scanner-AllInOne-Mic-XY300模塊化厚度測繪系統集成了光學、電子和機械模塊，可兼用于對無圖形和圖形薄膜（例如微圖形表面、粗糙表面）進行精確測量。

將晶圓放置在真空吸盤上（晶圓尺寸直徑≤300mm）并配備反射率標準件。由功能強大的光學模塊執行測量，光斑尺寸小至幾微米。電動平臺提供XY方向 300 毫米的行程，在速度、精度和可重復性方面具有良好的性能

FR-Scanner-AIO-Mic-XY300提供了:

o 實時反射率光譜測量

o 薄膜厚度、光學特性、非均勻性測量、厚度測繪

o 使用集成的、USB 連接的高質量彩色相機進行成像

o 測量參數統計數據

o 半自動圖案對準功能用于測量周期性圖形區域

o 不一樣的軟件功能，例如：Click2Move (螢幕點擊定位量測點)、比例尺

附件：

規格：

型號	UV/VIS	UV/NIR-EX	UV/NIR-HR	D UV/NIR	VIS/NIR	D VIS/NIR	NIR	NIR-N2	NIR-N3
光譜范圍(納米)	200-850	200-1000	200-1100	200-1700	370 -1020	370-1700	900-1700	900-1050	1280-
光譜儀	CCD圖像傳感器
光譜儀像素	3648	3648	3648	3648&512	3648	3648&512	512	3648	512
厚度范圍	4nm-60um	4nm-70um	4nm-100um	4nm-150um	15nm-100um	15nm-150um	100nm-150um	4um-1mm	10um-2mm
分析n&k*小厚度	50nm	50nm	50nm	50nm	100nm	100nm	500nm	-	-
層數	同時測量 5 層薄膜（需具備足夠的折射率差
厚度準確性（精度）	0.1% or 1nm	0.1% or 1nm	0.1% or 1nm	0.2% or 2nm	0.2% or 2nm	0.2% or 2nm	3nm or 0.3%	3nm or 0.3%	0.4%
厚度精度	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.02nm	<1nm	5nm
厚度穩定性	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.02nm	0.02nm	<1nm	5nm
光源	氘燈與鹵素燈（內置），平均無故障時間 2000 小時，配備計算機控制快門			素燈（內置），平均無故障時間 3000 小時，配備計算機控制快門			SLED 光源，平均無故障時間 >150,000 小時，配備計算機控制快門
顯微鏡模塊	配備 200 萬/500 萬像素彩色圖像傳感器的顯微鏡鏡體，具有寬廣的觀察視野
晶圓載臺	分辨率：優于 0.5 μm；重復性：±2 μm（雙向）；精度：±2 μm
晶圓尺寸	兼容 2 英寸、3 英寸、4 英寸、6 英寸（150 毫米）、8 英寸（200 毫米）、12 英寸（300 毫米）晶圓，以及尺寸在 300 毫米以內的任意形狀樣品；晶圓放置重復性 < 0.5 毫米
掃描速度	49 次測量 / 90 秒（針對 8 英寸晶圓尺寸）